荷兰半导体控制新规：ASML老练DUV光刻机不受影响！

迫于美国压力，荷兰政府 8 日证实，将在夏日前施行新的出口控制 。 据 报导 ，新的出口控制触及最先进的浸入式深紫外光 光刻机 （ DUV ）设备， ASML 对此表明，新控制包括最先进的堆积和滋润式 光刻机 （ immersion lithography ）设备， 公司将为最先进的浸入式 DUV 系统 申请出口许可证。

ASML 也强调，这项新控制没有包含一切的浸入式光刻机设备，而是所谓的“最先进”工具，但还没接收到有关最先进的定义和信息。从公司官网可以看到现在ASML主流的DUV光刻机有三款设备：该公司认为最先进的设备可能是 TWINSCAN NXT：2000i及随后推出的浸入式设备。NXT：1980i DUV光刻机则不在控制规模之内(NXT：1980i这款设备也是当年武汉从前花费了7200万美元购买过的设备。) 。而如果需求购买2000i及更先进的设备则需求申请出口许可证。从ASML官网获悉，1980i与2000i具有相同的光学及量产指标。都采用了193nm的深紫光源，单次曝光最大分辨率支持到38nm。DUV光刻机是通过屡次曝光技能也可突破到10nm工艺之内。ASML表明，那些专注于成熟工艺的客户可以使用不太先进的浸入式光刻设备，并称公司的长时间计划首要基于全球普世需求和技能趋势。ASML 的 EUV 设备自 2019年就开始受到限制。最后ASML表明，现在荷兰政府的办法不会影响2023年财务前景，或许对长时间前景产生严重影响。